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GemVax & KAEL

젬백스앤카엘은 건강과 행복한 삶을 추구합니다

CA filter
  • 용도
    반도체&LCD/PDP 산업 고도의 미세화 PROCESS 에 의한 오염물질 흡착
    CLEAN ROOM PARTICLE 및 고체 미립자에 의한 무기화학오염물질 및 휘발성 유기물 제어
    화학물질 저감기술 흡착 및 이온교환기능을 갖는 흡착제를 이용한 CHEMICAL AIR FILTER
  • 장점
    기술적 우위 저압력손실, NONE OUT-GASSING, lONG LIFE TIME
    가격 경쟁력 흡착제 자체 생산, 원부자재 자체 가공
    납기 단축 및 A/S 자체 원천기술보유, 분석 장비 및 능력 보유

Clean Room에서 오염 제거 효과

Impurity Impurity
Condensable organic mw, 120↑, bp, 150c↑Organic Compounds - Adsorption on Lens / Reticle
- pollution of Reticle backside
Refractory siloxane, HMDS Silano Organophosphate, Oranosulfate - Pollution of Non-cleanable Lens / Reticle
- Oxidation with DUV on Lens / Reticle Surface
Acids SO₂, HCI, CI₂, HF, H₂S - Adosorption of salt typo
- Corrosion
Bases NH₃, Amines, NMP - Bad PR Performance
Aromatic hydrocarbon Toluene, Xylene - Pellicle polymer attack
Ozone O₃ - Pellicle polymer attack

대상가스

Application Model Type Target Gases
MA MB MC MD Ozone VOCs
FFU 1000 Series Pleat
(Fan Filter Unit)
Return Hail
2000 Series Pleat / Round / V-Bank
OCA
(Out Air Controller)
3000 Series Pleat / Tray / V-Bank
Equipment 5000 Series Pleat / V-Bed
Display Air Controller 6000 Series Tray
The others 9000 Series Customization

제품모델

  • Application code
    CODE Application
    1000 FFU(Fan Filter Unit)
    2000 Return Hall
    3000 OAC(Out Air Controller)
    5000 Equipment
    6000 Display Air Controller
    9000 The others
    Type code
    CODE Type
    0 NH₃
    100 NH₃+ ACID
    200 NH₃+ Organic
    300 NH₃+ Acid + O₃
    400 NH₃+ NMP
    500 O₃
    600
    700
    Target gas code
    CODE Target gases
    10 NH₃
    11 NH₃ + ACID
    12 NH₃ + Organic
    13 NH₃ + Acid + O₃
    14 NH₃ + NMP
    20 O₃
    21 O₃ + Organic
    22 O₃ +NOx
    23 O₃ + NOs + SOx
    24 O₃ + Acid + Organic
    30 NH₃ + SOx + NOx + Amine + NMP
    31 MA + MB + MC
    32 NH₃ + Amine + NMP
    33 ACID
    40 Organic + ACID
    41 Organic + ACID + O₃
    42 The others
기타제품

F2 Trap

  • 특징

    ·Excimer Laser 장비내의 유독가스인 F2 를 제거·Toxic Gas 의 배출을 억제, 챔버 물질과 플라즈마 반응으로 분해된 불소 화합물 제거

    용도

    ·Excimer Laser 장비 부품

Halogen Gas 제어필터

  • 특징

    · 디스플레이 핵심 Laser 설비에서 발생되는 Halogen Gas 제어   : 디스플레이 LTPS ELA [Eximer Laser Annealing] 장비적용